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二氧化硅抛光液要这样清洗才更干净

更新时间:2022-04-25      点击次数:518
    二氧化硅抛光液是以高纯度硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。用高纯度的胶态氧化硅微粒所组成,可避免加工元件产生刮伤的现象,特别用于铌酸锂、钽酸锂、蓝宝石、石英等电子材料、光学晶体、金属等抛光。
 
  二氧化硅抛光液的应用特性:
  1、抛光速率快,利用分散均匀大粒径的胶体二氧化硅等粒子达到高速抛光的目的。
 
  2、高纯度,不腐蚀设备,使用的安全性能高。
 
  3、高平坦度加工,本品抛光是利用SiO2等材料的均匀纳米粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工。
 
  4、有效有效减少抛光后的表面划伤,降低抛光后的表面粗糙度。
 

二氧化硅抛光液

 

  二氧化硅抛光液要如何来清洗干净呢?
  其实很确定的说是通过清洗剂配合超声波来清洗的。首先在清洗之前要先分析,产品的材料及性能。有些产品是对强酸、强碱会起反应的。特别中镁铝合金,铁类产品。否则清洗过后是通过不了客户的延误测试。
 
  拿不锈钢来说清洗流程较为简单:除油粉——清水——清水——除蜡水——清水——清水——烤干即可。一般含粘接蜡的不锈钢产品都可以通过这样的方法进行清洗。
 
  那么如果是铝合金镜面产品呢?这个考虑的内容比较多。
 
  铝容易生锈,并且容易出现划痕,而且铝还容易氧化掉。这是要避免的。一般的清洗流程是:铝材除蜡水——清水——清水——铝材清洗剂——清水——清水。几道工序下来基本上能解决好。

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